Tinchew Chokchok Liquid Foundation SPF 15 No.13 тональный крем 110 мл

Артикул: 197

800 ₽

Нет в наличии

Нет в наличии

Описание

Увлажняющая тональная основа для безупречного макияжа с эффектом «Chok Chok». За счет высокой пигментации тональная основа даже небольшой каплей хорошо покрывает большие участки. Плотность можно усиливать, и основа не выглядит как маска, с ее помощью можно скрыть мелкие недочеты в виде покраснений, придать коже свежий вид и красивый, ровный тон без эффекта маски, с эффектом влажного сияния. Текстура у средства легкая, на лице ощущается как вторая кожа. Новаторская интеллектуальная формула объединила в себе симбиоз эффективнейших уходовых компонентов — коллагена и ретинола, их присутствие в выверенной и безопасной для кожи дозировке стимулирует рост новых клеток, синтез белков и коллагена и формирование клеточных мембран. В короткие сроки они помогут справиться не только с морщинами и неровным тоном кожи, но и прыщиками, чёрными точками и пигментными пятнами.

Способ применения: после всех этапов дневного ухода нанесите тональную основу на лицо, распределите руками либо с помощью кисти или спонжа.

Характеристики
Объем

110 мл

Тип кожи

для всех типов

Активный ингредиент

Бета-глюкан

,

Гиалуроновая кислота

,

Коллаген

Бренд

Страна производства

Южная Корея

Состав

Whater, Cyclopentasiloxane, Cyclohexasiloxane, Titanium Dioxide, Glycerin, Niacinamide, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, PEG-10 Dimethicone, Magnesium Sulfate, Silica Dimethyl Silylate, Quaternium-18 Hectorite, Talc, Phenoxyethanol, Chlorphenesin, Butylene Glycol, Stearyl Dimethicone, Aluminum Hydroxide, Triethoxycaprylysilane, Tocopheryl Acetate, Phenyl Trimethicone, Fragrance, Octadecene, Adenosine, Disodium EDTA, Retinol, Centella Asiatica Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Sodium Hyaluronate, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Hydrolyzed Collagen, Ethylhexylglycerin, [+/-] CI 77492, CI 77491, CI 77499.